ISBN/价格: | 978-7-118-12284-8:CNY169.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/.张新宇, 谢长生著 |
出版发行项: | 北京:,国防工业出版社:,2021.10 |
载体形态项: | 211页:;+图:;+25cm |
丛编项: | 现代微纳米光电成像探测技术丛书 |
提要文摘: | 本书主要针对可见光、红外和太赫兹等谱域的折射与衍射微光学结构, 开展新的设计、工艺制作和测试评估方法的研究。重点论述了以折射和衍射微光学积分变换为基础, 有效出射可见光、红外及太赫兹多谱图像与波前的基础理论和基本方法, 建立了基于衍射相位精细构建在设计、仿真、工艺、测试与评估等方面的数据和方法体系。 |
题名主题: | 刻蚀 研究 |
中图分类: | TN405.98 |
个人名称等同: | 张新宇 著 |
个人名称等同: | 谢长生 著 |
记录来源: | CN 百万庄 20230315 |