| ISBN/价格: | 978-7-111-50268-5:CNY32.00 |
|---|---|
| 作品语种: | chi |
| 出版国别: | CN 110000 |
| 题名责任者项: | 半导体微系统制造技术/.刘斌主编 |
| 出版发行项: | 北京:,机械工业出版社:,2017.01 |
| 载体形态项: | 224页:;+图:;+26cm |
| 一般附注: | 普通高等教育“十三五”规划教材 |
| 提要文摘: | 本书根据微电子机械系统的发展趋势, 主要介绍了常用的微系统制作工艺, 并加入了部分超大规模集成电路工艺。本书在微电子制造技术的基础上主要包括了MEMS及微系统常用材料、硅的各向同性腐蚀、阳极腐蚀、硅的各向异性腐蚀、电钝化腐蚀、自停止腐蚀方法的比较、非晶薄膜的腐蚀与表面微加工、静电键合技术、 硅热键合技术、掺杂、平坦化等几个主要微系统制造工艺, 具体到每一道工艺中都详细讲述了工艺的基本原理、工艺的操作过程, 力求把当前比较新的工艺介绍给读者。 |
| 题名主题: | 半导体电子学 微电子技术 高等学校 教材 |
| 中图分类: | TN301 |
| 个人名称等同: | 刘斌 主编 |
| 记录来源: | CN 湖北三新 20181023 |