书目详细信息
： 等离子体刻蚀工艺及设备
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-121-45018-1:CNY98.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 等离子体刻蚀工艺及设备/.主编赵晋荣/.参编蒋中伟 ... [等] |
| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2023.2 |
| 载体形态项： | xiv, 164页:;+图:;+25cm |
| 丛编项： | 集成电路系列丛书.集成电路产业专用装备 |
| 相关题名附注： | 英文并列题名取自封面 |
| 提要文摘： | 本书介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。 |
| 并列题名： | Plasma etching process and apparatus eng |
| 题名主题： | 等离子刻蚀 工艺学 |
| 题名主题： | 等离子刻蚀 设备 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 赵晋荣 主编 |
| 个人名称次要： | 蒋中伟 参编 |
| 个人名称次要： | 林源为 参编 |
| 记录来源： | CN 百万庄 20240315 |