书目详细信息
： 集成电路掩模设计:基础版图技术
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 7-302-10860-9:CNY59.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 集成电路掩模设计/.(美)塞因特著/.周润德, 金申美译 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2006.1 |
| 载体形态项： | 16,435页:;+图:;+23cm |
| 一般附注： | 国外大学优秀教材－微电子类系列(翻译版) |
| 一般附注： | 统一题名：IC mask design |
| 一般附注： | 其他题名：基础版图技术 |
| 提要文摘： | 全书分为11章，覆盖了数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和喷射集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声等。 |
| 并列题名： | IC mask design eng |
| 题名主题： | 集成电路工艺 掩模 工艺设计 高等学校 教材 |
| 题名主题： | 集成电路工艺 |
| 题名主题： | 掩模 |
| 题名主题： | 工艺设计 |
| 中图分类： | TN405.7 |
| 个人名称等同： | 塞因特 著 |
| 个人名称次要： | 周润德 译 |
| 个人名称次要： | 金申美 译 |
| 记录来源： | CN NLC 20060228 |