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书目详细信息： 多利,你好!:克隆技术的背景、现状与未来

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《多利,你好!:克隆技术的背景、现状与未来》

ISBN/价格：	7-208-02664-5:$10.00
作品语种：	chi
题名责任者项：	多利,你好!:克隆技术的背景、现状与未来/.韩王荣, 龚静著
出版发行项：	上海:,上海人民出版社:,1997.8
载体形态项：	181页:;+19cm
中图分类：	Q785
个人名称等同：	韩王荣著
个人名称等同：	龚静著

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