书目详细信息
： 真空镀膜设备
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5024-5014-4:CNY26.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 真空镀膜设备/.张以忱编著 |
| 出版发行项： | 北京:,冶金工业出版社:,2009.08 |
| 载体形态项： | 205页:;+图:;+21cm |
| 丛编项： | 真空工程技术丛书 |
| 提要文摘： | 本书详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择, 其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章, 主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导入结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。 |
| 题名主题： | 真空技术 镀膜 设备 |
| 中图分类： | TN305.8 |
| 个人名称等同： | 张以忱 编著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20171128 |