书目详细信息
： 计算光刻与版图优化
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-121-40226-5:CNY79.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 计算光刻与版图优化/.韦亚一 ... [等] 著 |
| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2021.1 |
| 载体形态项： | x, 238页:;+图:;+26cm |
| 丛编项： | 中国科学院大学研究生教学辅导书系列 |
| 丛编项： | 集成电路技术丛书 |
| 相关题名附注： | 英文并列题名取自封面 |
| 提要文摘： | 本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况, 涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势, 系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论, 论述了版图设计与制造工艺的关系, 以及版图设计对制造良率的影响, 讲述和讨论了版图设计与制造工艺协同优化的概念和方法论, 并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。 |
| 并列题名： | Computational lithography and layout optimization eng |
| 题名主题： | 集成电路工艺 电子束光刻 |
| 中图分类： | TN405.98 |
| 个人名称等同： | 韦亚一 著 |
| 个人名称等同： | 粟雅娟 著 |
| 个人名称等同： | 董立松 著 |
| 记录来源： | CN 百万庄 20230315 |