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： 单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5612-9780-3:CNY68.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 610000 |
| 题名责任者项： | 单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究/.史卓颖著 |
| 出版发行项： | 西安:,西北工业大学出版社:,2025.04 |
| 载体形态项： | 108页:;+图 (部分彩图):;+26cm |
| 提要文摘： | 本书结合国内外金刚石抛光技术的研究现状, 并基于作者的研究工作提出了金刚石常温化学机械抛光 (CMP) 的新工艺方法, 探索了抛光过程中原子尺度的材料去除机理。全书共6章, 内容包括绪论、OH环境下金刚石常温CMP的可行性的MD分析、金刚石常温CMP抛光液的研究、金刚石常温CMP的工艺研究、基于Fenton抛光液的金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、Fenton抛光液在金刚石不同晶面CMP中的抛光性能等。 |
| 题名主题： | 金刚石 化学抛光 研究 |
| 中图分类： | TQ164.8 |
| 个人名称等同： | 史卓颖 著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20250825 |
| 记录来源： | CN GGNY 20250927 |