书目详细信息
： 硅技术的发展和未来
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5024-4536-2:CNY50.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 硅技术的发展和未来/.(法)P.希弗特, (德)E.克瑞梅尔编著/.屠海令等译 |
| 出版发行项： | 北京:,冶金工业出版社:,2009.02 |
| 载体形态项： | 15,480页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念。 |
| 题名主题： | 硅 研究 |
| 中图分类： | TQ127.2 |
| 个人名称等同： | 希弗特 (法) (Siffert, P.) 编著 |
| 个人名称等同： | 克瑞梅尔 (德) (Krimmel, E. F.) 编著 |
| 个人名称次要： | 屠海令 译 |
| 记录来源： | CN NLC 20091015 |