书目详细信息
： 基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-03-055333-1:CNY38.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究/.章嵩著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2017.11 |
| 载体形态项： | 90页:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 博士后文库 |
| 提要文摘： | 本书旨在利用脉冲激光沉积技术, 将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼-碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整, 得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜, 建立靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参考与薄膜组成、结构之间的关系, 对该系列薄膜的生长机理进行分析研究。 |
| 题名主题： | 薄膜技术 研究 |
| 题名主题： | 富硼渣 激光淀积 研究 |
| 中图分类： | TB43 |
| 中图分类： | TD926.4 |
| 个人名称等同： | 章嵩 著 |
| 记录来源： | CN 湖北三新 20181022 |